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艾佩科（上海）氣體有限公司
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| 三氟化氮（NF3） | |
| 化學(xué)式 | NF3 |
| 中文名稱 | 三氟化氮 |
| 英文名稱 | Nitrogen trifluoride |
| CAS No. | 7783-54-2 |
| 分子量 | 71.002 |
| 充裝系數(shù) | 0.55kg/L(氣瓶公稱工作壓為12.5MPa時(shí)) |
| 應(yīng)用 | 主要用于化學(xué)氣相淀積（CVD）裝置的清洗。三氟化氮可以單獨(dú)或與其它氣體組合，用作等離子體工藝的蝕刻氣體，例如，NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蝕刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蝕刻，也用于NbSi2的蝕刻。 |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | ≥99.999% |
百科：
三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，是一種強(qiáng)氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時(shí)裂解為活性氟離子，這些氟離子對(duì)硅和鎢化合物，高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對(duì)氧化硅和硅），它在蝕刻時(shí)，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時(shí)在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運(yùn)用。
